售价方面，ASML最新High-NA EUV 光刻机的价格将介于3亿至3.5亿欧元，目前热销的EUV 光刻机单价则为 1.5 亿至 2 亿美元。

报道称，日本政府将补助本次投资额的一半，即200亿日圆，并期待三星能聘用日本当地工程师，与日本研究所等展开研发合作。

将人工智能应用于半导体设备正在成为全球趋势和核心竞争力。半导体制造商正在使用人工智能来分析流程，识别不必要的晶圆损失和缺陷，并优化流程。

CFM分析，此波服务器市场需求增长除了四季度传统旺季效应之外，本轮存储行情开始回暖也带动了客户的拉货积极性，加上上半年市场实属惨淡，滞后的需求也开始陆续释放，导致当前市场需求表现优于此前预期。

在向这些实体出口产品之前，美国出口商必须进行额外的尽职调查，且可能需要申请更多许可。

其最新的High-NA EUV 曝光机的孔径将从0.33提高到0.55，这将使芯片制造商能够使用超精细图案化技术来制造2nm节点芯片。

近日，广东省半导体及集成电路产业股权投资基金二期合伙企业（有限合伙）成立，执行事务合伙人为广东粤财基金管理有限公司，总出资额110.01亿元人民币。

台积电「提名及公司治理暨永续委员会」推荐副董事长魏哲家博士接任下届董事长，并将以明年六月下届董事会选举结果为主。

据了解，三星电子计划将DRAM和NAND产量较今年分别扩大约24%，SK海力士计划扩大生产，重点关注 HBM 等尖端 DRAM，计划将 DRAM 产量提高到减产前的水平，即去年年底前的水平。