应用材料公开了面向AI半导体使用的三维(3D)芯片制造设备产品线。该系列设备主要侧重于如高带宽存储器(HBM)、芯粒(Chiplet)、混合键合(Hybrid Bonding)等先进封装工艺所需的平坦化、沉积、和计量检测等。具体来看,本次公开的设备包括用于封装领域的先进化学机械抛光 (CMP)、电化学气相沉积 (ECD) 和等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备等,还新增了基于电子束的工艺控制设备,并升级了其用于DRAM工艺的外延设备。

据媒体报道,针对近期市场高度关注的内存及其他关键零部件涨价问题,联想集团执行副总裁、智能设备业务集团(IDG)总裁Luca回应称,已经锁定了充足供应,但公司无法完全免受成本上涨影响,因此涨价仍然构成挑战。此前消息称,联想自7月起将对全品类产品统一涨价,幅度与前期相当。

此次投资计划的一大焦点,是SK海力士拟在韩国清州新建一座NAND闪存晶圆厂。若该计划最终落地,这将是自2018年M15工厂建成以来,SK海力士在该厂区首次进行重大NAND产能扩张。

高通依托HBC架构,在低功耗云端推理、大规模AI算力部署赛道形成与传统HBM方案错位竞争的技术优势,持续完善自身AI算力生态布局。这一路径有望在特定场景下为客户提供HBM之外的高能效、低成本新选择,整体AI加速市场将呈现多元技术路线并存的格局,HBC与HBM各有适用边界,共同服务于日益增长的AI算力需求。

6 月 25 日,微软与苹果先后发布公告上调硬件定价,核心诱因是 AI 数据中心扩容带动存储芯片需求激增,叠加多重供应链因素推高元器件成本。

据韩媒inews24报道,SK海力士的赴美上市进程已进入最后冲刺阶段;与此同时,铠侠也发布了赴美发行ADR(美国存托凭证)的时间表,并计划通过拆股降低散户投资门槛。

数据显示,与现有的2纳米节点芯片相比,这款亚1纳米芯片的性能最高提升50%,能效提升高达70%,同时可将静态随机存取存储器(SRAM)的缩放比例提升40%。这一重大突破将极大满足生成式AI、云基础设施等前沿领域对高算力、低能耗的迫切需求。

高通正式发布高带宽计算(High-Bandwidth Compute,HBC)架构,将HBC加速器放置于LPDDR堆栈下方,通过TSV硅通孔技术实现LPDDR堆栈和HBC加速器互连。相较于竞品已发布产品,在卡级归一化条件下,HBC每瓦带宽相为HBM的6倍;在机架级归一化条件下,HBC每瓦容量为SRAM的200倍。采用HBC Gen 2的AI300则旨在实现进一步的阶梯式提升,相比AI200有效带宽最高可提升54倍,每瓦带宽较HBM实现7倍跃升。

受美国对华半导体出口限制约束,面向中国市场的 AI 加速器、数据中心 CPU、定制 ASIC、互联芯片四大数据中心产品线,高通均会单独调整性能参数、按合规标准重新设计,控制算力指标在监管许可阈值内,规避合规风险。

长期以来,HBM封装多采用热压键合(TCB)技术,但这种方式存在天然的物理缺陷。TCB依靠微小的凸点(bump)连接,且中间必须填充底胶(underfill),这导致热传导路径被阻断,热阻极大。相比之下,三星力推的混合铜键合(HCB)实现了铜与铜的直接接触。这种“直连”方式打通了更多的散热通道,大幅提升了热量逸出的效率。

为满足难以填满的需求,美光正以前所未有的力度扩充产能。美光预计第四财季资本开支约100亿美元,2026财年全年资本开支约270亿美元,且2027财年各季度资本开支将进一步提升,其中超一半增量将用于洁净室与厂房建设。

由于生成式人工智能(AI)模型训练所需的硬件资源正面临极度短缺,OpenAI选择通过这种资本绑定的方式,确保自身能够获得稳定的算力基础设施。

据韩媒报道,三星电子近期将约7.5万片晶圆(占其每月15万片HBM DRAM晶圆投入量的一半)用于HBM4的生产,剩余一半则用于生产第五代HBM3E 12层产品。据悉,市场需求相对较低的HBM3E 8层产品的生产已暂时停止,并将产能转移至HBM4的生产。

本次集采分为两个标包,其中ARM-A服务器(G系列)数量28000台,C86服务器(G系列)12000台,总计40000台,均为国产化设备,共吸引10家厂商参与竞标。招标资料显示,两个标包都对SSD硬盘设置了最高投标限价,具体而言“480GB SATA SSD 硬盘”配件单价设置最高投标限价为1635.00元人民币(不含增值税),投标人该配件单价报价高于最高投标限价的,其投标将被否决。

据外媒报道,三星计划到2029年实现420层NAND闪存解决方案,到2030年实现超过560层。随后在下一个十年之初,三星计划将层数翻番,实现超过1000层的解决方案。层数翻倍会带来晶圆翘曲和层间对准误差等问题,但据悉三星计划引入Upper Chuck Design方案和Overlay Correction(叠对校正)技术解决相关问题。

3月中下旬以来,现货贸易端NAND wafer价格开始出现反转而向下调整,即便市场不时仍有买盘承接,也难以扭转wafer贸易价阴跌的局面,近期部分有一定变现压力的小型贸易商不断压低报价。经过连续数月的缓慢下跌后,个别wafer已跌回1月底的价位水平。为反映当前现货资源贸易价格变化,今日512Gb TLC、1Tb QLC wafer价格分别下调至22.50美金、26.50美金。

JEDEC制定并公布了SPHBM4标准。SPHBM4是一项新的JEDEC标准,使用更少的信号引脚、标准封装和更经济的基板,即可实现接近HBM4的性能。SPHBM4将信号引脚数量减少到原来的五分之一,并通过将信号速度提高至原来的四倍,缓解性能损失的问题。这将使HBM制造商能够减少对昂贵的高级封装解决方案的依赖。

据《朝鲜日报》引述业内消息称,SK海力士正考虑略微推迟部分第五代HBM(HBM3E)产线向HBM4的转换计划。这一政策的核心在于提升对通用DRAM市场的响应速度。目前,通用DRAM的营业利润率已超越HBM,此举旨在确保更多利润。业界普遍认为,这反映出SK海力士的判断:鉴于其在HBM市场已稳占主导地位,目前并无必要急于向HBM4及第七代HBM(HBM4E)过渡。

美光科技宣布与人工智能公司Anthropic达成一项全面战略合作协议。此次合作涵盖内存与存储AI架构设计、产品供需协议、美光内部企业级AI应用部署,以及美光对Anthropic H轮融资的战略投资。该协议旨在将前沿AI模型的需求与底层基础设施的设计、供应及大规模部署紧密结合。

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三星电子今天推出业内速度最快的通用闪存存储 (UFS) 5.0 解决方案。该方案实现了业界最高的10.8GB/s带宽,顺序读取速度高达10.8 GB/s,顺序写入速度高达9.5 GB/s,顺序读写速度较上一代UFS 4.1标准快两倍以上。三星UFS 5.0方案显著提升了移动内存的存储和处理速度,同时提高了能效并缩小了封装尺寸,可提供更佳的设备端AI体验。三星将于今年第四季度开始量产UFS 5.0,容量最高可达1TB。

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上市公司

数据有延时,06-29 12:09
存储原厂
三星电子 KRW 319000 -5.93%
SK海力士 KRW 2556000 -4.38%
铠侠 JPY 86530 -6.13%
美光科技 USD 1132.330 -6.69%
西部数据 USD 586.450 -13.17%
闪迪 USD 2090.710 -10.46%
南亚科技 TWD 456.0 +1.56%
华邦电子 TWD 205.5 -0.48%
主控厂商
群联电子 TWD 2330 +0.87%
慧荣科技 USD 305.280 -6.14%
联芸科技 CNY 79.44 -1.56%
点序 TWD 81.8 +0.37%
品牌/模组
江波龙 CNY 700.50 +3.08%
希捷科技 USD 899.900 -12.24%
宜鼎国际 TWD 1560 -2.80%
创见资讯 TWD 273.0 -1.97%
威刚科技 TWD 400.5 +0.75%
世迈科技 USD 62.280 -6.72%
朗科科技 CNY 68.32 -2.23%
佰维存储 CNY 492.00 -1.81%
德明利 CNY 924.00 -2.84%
大普微电子 CNY 640.00 -2.73%
大为股份 CNY 34.38 -6.78%
封测厂商
华泰电子 TWD 52.6 -1.50%
力成 TWD 307.0 -2.23%
长电科技 CNY 95.92 -4.93%
日月光 TWD 625 -1.11%
通富微电 CNY 68.78 -3.94%
华天科技 CNY 20.95 -7.14%