松绑？韩国称日本批准半导体材料出口许可，为7月受限以来首次

据韩联社最新消息，8日在韩国国政事务检查调整会议时韩国方面表示，日本8月7日批准日企提出的向韩国出口EUV光刻胶材料的个别许可，这是7月日本宣布对韩国限制出口三种半导体材料同时将韩国剔除白名单以来，首次对受限货品给予出口许可。

日本设限的光刻胶，主要是针对先进制程的EUV光刻胶，以及用于主流存储芯片工艺的ArF光刻胶。因此7nm及以下先进制程工艺，以及存储制造都会受到影响。

光刻胶是光刻中采用的感光物质，其利用光照反应后溶解度不同将掩膜版图形转移至衬底上。根据波长不同可分为g线（436nm）、i线（365）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、F2（157nm）以及极紫外光等，分别对应不同的光刻胶，高端光刻胶核心技术几乎被日本和美国企业所垄断。目前主流光刻胶主要集中在住友化学、TOK、信越、JSR和陶氏化学五家中，韩国目前仅有锦湖石油化学具备大批量供应ArF Dry/Immersion能力，另一家厂商东进化学产品主要集中在面板光刻胶、半导体级KrF光刻胶领域。

此次批准的EUV光刻胶材料对于三星电子高端芯片代工生产业务至关重要。根据资料显示，韩国晶圆制造产能占据全球21.3%。尤其在7nm以下的先进制程竞赛中，仅剩下台积电、三星两雄逐鹿。三星电子暂未置评。

资料来源：IC INSIGHTS，国盛证券研究所

对于韩国来说，日本限制出口材料仍是卡脖子的一道难关，尽快找到其他的替代供应以及韩国国内自主生产迫在眉睫。

据韩媒报道，随着日本对韩国出口限制对韩国半导体造成的影响不断扩大，三星电子决定将半导体生产过程中使用的约220余种日本原材料和化学药品全部替换为韩国本土产品或其他国家产品。同时还特意成立了特别工作组，负责与生产半导体材料的厂商接触，并对其产品品质等问题进行评估。