编辑:AVA 发布:2023-09-07 10:55
据外媒报道,荷兰半导体设备制造商ASML CEO Peter Wennink 表示,该公司有望于今年推出业界首款数值孔径 (NA) 为 0.55 的极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。ASML 的 Twinscan EXE:5000 机器将主要用于开发目的,并帮助客户熟悉新技术及其功能。High-NA 工具预计将于 2025 年及以后投入商业使用。
高数值孔径(High NA) EUV 微影曝光设备仅卡车大小。与相机一样,高数值孔径(High NA) EUV 微影曝光设备将从更宽角度收集光线,解析度提高70%。对领先半导体制造商生产先进半导体芯片是不可或缺的设备,十年内生产面积更小、性能更好的芯片。
需要注意的是,0.55 NA EUV 工具不会取代当代晶圆厂中当前的深紫外 (DUV) 和 EUV 设备,就像 0.33 NA EUV 的引入并没有逐步淘汰 DUV 光刻一样。在可预见的未来,ASML 将继续推进其 DUV 和 0.33 NA EUV 扫描仪。同时,高数值孔径 EUV 光刻将在缩小晶体管尺寸和提高其性能方面发挥关键作用。
报道称, 英特尔可能会在其18A工艺技术中采用 ASML 的 High-NA 工具,台积电和三星等将在晚些时候使用它们。但这些扫描仪价格昂贵,预计每台成本可能超过3亿美元,这将进一步增加领先晶圆厂的成本。
存储原厂 |
三星电子 | 59100 | KRW | +2.25% |
SK海力士 | 224500 | KRW | +3.22% |
铠侠 | 2165 | JPY | +2.32% |
美光科技 | 108.560 | USD | +2.14% |
西部数据 | 55.450 | USD | +0.73% |
闪迪 | 39.150 | USD | +0.08% |
南亚科技 | 52.0 | TWD | -0.95% |
华邦电子 | 18.35 | TWD | +1.38% |
主控厂商 |
群联电子 | 535 | TWD | +0.94% |
慧荣科技 | 67.080 | USD | +0.90% |
联芸科技 | 38.46 | CNY | +0.42% |
点序 | 64.7 | TWD | +9.85% |
品牌/模组 |
江波龙 | 73.47 | CNY | +1.48% |
希捷科技 | 126.970 | USD | -0.57% |
宜鼎国际 | 244.5 | TWD | +2.95% |
创见资讯 | 105.5 | TWD | +1.93% |
威刚科技 | 99.0 | TWD | +5.66% |
世迈科技 | 19.550 | USD | +2.62% |
朗科科技 | 22.51 | CNY | -0.18% |
佰维存储 | 61.96 | CNY | +0.47% |
德明利 | 119.26 | CNY | -2.94% |
大为股份 | 16.49 | CNY | +10.01% |
封测厂商 |
华泰电子 | 40.40 | TWD | -1.22% |
力成 | 125.0 | TWD | +4.17% |
长电科技 | 32.94 | CNY | -0.24% |
日月光 | 139.0 | TWD | -0.36% |
通富微电 | 23.87 | CNY | -0.42% |
华天科技 | 8.94 | CNY | +0.11% |
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