佳能、铠侠合推纳米压印技术，最快2025年可与ASML EUV一较高下

日本微影设备厂商佳能日前在法说会上证实，将在日本斥资逾500亿日圆(约合3.57亿美元)，在日本中部栃木县兴建新厂，扩增其微影设备产能，佳能表示该厂房将于2023年兴建，预计从2025年开始营运。

综合多家日媒报道，尽管佳能发言人表示，新厂以扩增现有标准氟化氪(KrF)和i-line等系统为主，但还计划生产支援15nm以下先进制程量产的纳米压印(nanoimprint)微影设备，目前尚未做出最终决定。

从设备试产、晶圆厂试运行，再到新厂生产线投产设备，日企欲通过半导体「纳米压印」技术追赶ASML的脚步推进。佳能、大日本印刷与铠侠合作，自2017年起在铠侠四日市工厂启动纳米压印的试制设备测试运行后，如今在技术层面上，已有推向商业化导入的时间表。

以最乐观进程预估，2025年佳能可望交出能与ASML EUV曝光机台一较长短的晶圆厂量产设备，据日经亚洲报导指出，纳米压印技术微影设备现阶段支援15nm制程，但将力争进一步推进制程微缩，初期将导入生产DRAM、PC用CPU等，未来还可望应用在手机AP等极需高阶先进制程的逻辑IC生产。

大日本印刷负责人表示，如今技术上已有突破，来自半导体厂商的咨询正在增加，尽管商用化仍面临挑战，但相较于ASML的EUV曝光机台，导入佳能纳米压印设备后，预计晶圆制造成本降低4成、耗电量降低9成，不仅可省掉成本庞大的曝光制程其中一部分，在ESG大势所趋下，耗电量大减的吸引力也让不少厂商探询。