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佳能、铠侠合推纳米压印技术,最快2025年可与ASML EUV一较高下

编辑:AVA 发布:2022-11-24 11:56

日本微影设备厂商佳能日前在法说会上证实,将在日本斥资逾500亿日圆(约合3.57亿美元),在日本中部栃木县兴建新厂,扩增其微影设备产能,佳能表示该厂房将于2023年兴建,预计从2025年开始营运。

综合多家日媒报道,尽管佳能发言人表示,新厂以扩增现有标准氟化氪(KrF)和i-line等系统为主,但还计划生产支援15nm以下先进制程量产的纳米压印(nanoimprint)微影设备,目前尚未做出最终决定。

从设备试产、晶圆厂试运行,再到新厂生产线投产设备,日企欲通过半导体「纳米压印」技术追赶ASML的脚步推进。佳能、大日本印刷与铠侠合作,自2017年起在铠侠四日市工厂启动纳米压印的试制设备测试运行后,如今在技术层面上,已有推向商业化导入的时间表。

以最乐观进程预估,2025年佳能可望交出能与ASML EUV曝光机台一较长短的晶圆厂量产设备,据日经亚洲报导指出,纳米压印技术微影设备现阶段支援15nm制程,但将力争进一步推进制程微缩,初期将导入生产DRAM、PC用CPU等,未来还可望应用在手机AP等极需高阶先进制程的逻辑IC生产。

大日本印刷负责人表示,如今技术上已有突破,来自半导体厂商的咨询正在增加,尽管商用化仍面临挑战,但相较于ASML的EUV曝光机台,导入佳能纳米压印设备后,预计晶圆制造成本降低4成、耗电量降低9成,不仅可省掉成本庞大的曝光制程其中一部分,在ESG大势所趋下,耗电量大减的吸引力也让不少厂商探询。

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