江波龙(股票代码:301308)成立于1999年,主要从事Flash及DRAM存储器的研发、设计和销售。已形成嵌入式存储、固态硬盘、移动存储及内存条四大产品线,拥有行业类存储品牌FORESEE和国际高端消费类存储品牌Lexar(雷克沙)。产品广泛应用于智能手机、智能电视、平板电脑、计算机、通信设备、可穿戴设备、物联网、安防监控、工业控制、汽车电子等领域。
江波龙ORCA 4836系列企业级SSD采用128层TLC NAND,支持PCIe4.0接口,支持传统2.5英寸U.2形态。
江波龙UNCIA 3836系列企业级SSD采用128层TLC NAND,支持SATA接口,适用于服务器,基站等应用需求。
采用原厂高等级DRAM颗粒和澜起RCD,配备30μ” 金手指,提供16GB和32GB容量选择。
德明利发布2026年第一季度业绩预告。公司预计2026年第一季度营收为73亿元-78亿元,同比增长483.05%-522.98%;归属于上市公司股东的净利润为31.5亿元-36.5亿元,上年同期亏损6908.77万元;扣除非经常性损益后的净利润为31.4亿元-36.4亿元,上年同期亏损7495.86万元。报告期内,在供应偏紧的背景下,行业景气度持续上行,存储价格持续上涨,公司依托前期充足的原材料战略储备,盈利能力持续改善,利润水平大幅提高。
3月31日,铠侠再次向客户发出通知,宣布将于2028年停止生产部分浮栅式(Floating Gate)和BiCS FLASH™ Gen3产品。具体涉及的产品包括基于32/24/15nm制程(SLC/MLC/TLC)的浮栅式和BiCS FLASH™ Gen3晶圆、BGA、TSOP、eMMC、UFS、普通SD。铠侠表示,最后采购预测(即客户最后一次下单数量)期限为2026年9月30日,最后出货时间为2028年12月31日。此前,铠侠曾于3月16日向客户宣布停产采用“薄型小尺寸封装”(TSOP)的MLC NAND闪存产品。
据韩媒报道,美光已启动一项全新研发计划,旨在开发一款垂直堆叠结构的GDDR内存产品,通过类似HBM的垂直堆叠技术,大幅提升传统显存的性能与容量。这一创新设计有望在标准GDDR与高端HBM之间开辟一条新的技术路径,满足市场对高性能、低成本内存解决方案的迫切需求。据悉,美光计划在今年下半年完成相关设备的安装并进入工艺测试阶段。目前初步确定的方案是进行4层GDDR芯片的垂直堆叠,若进展顺利,首批测试样品最快将于2027年亮相。
据韩媒报道,三星电子位于中国西安的NAND晶圆厂近期成功完成工艺制程升级,实现了236层堆叠的第八代V-NAND (V8 NAND)的量产。本次制程升级始于2024年,旨在改造原有的V6 (128L) NAND,以提升产品性能与生产效率,增强产能竞争力,满足AI时代对高性能存储设备的需求。三星西安晶圆厂的下一步瞄准了286层堆叠的V9 NAND,相关生产线将位于X2工厂,计划在2026年内完成过渡并实现量产。
佰维存储(688525)3月25日公告,公司与某存储原厂签订15亿美元采购合同,为期24个月(2026年二季度至2028年一季度),标的为特定存储晶圆。合同金额超公司2025年营收与总资产的50%,达到重大合同披露标准。公司表示,此举旨在锁定中长期晶圆供应,稳定采购成本,助力业务稳健发展。
据外媒报道,SK海力士将引进价值约12万亿韩元(约合554亿元人民币)、占总资产9.97%的极紫外光刻(EUV)设备,用于下一代DRAM和高带宽存储器(HBM)量产。设备计划从本月起至明年底分期引进,每台设备分次付款。EUV由荷兰ASML独家生产,波长仅为传统ArF光源的1/13,是实现超精细工艺的关键设备,最新款单价约3000亿韩元。相关设备将陆续导入正在建设的清州M15X晶圆厂及龙仁半导体集群首座工厂,后者预计在明年2月洁净室启用后开始设备引进。
据外媒报道,三星电子即将启动8英寸(200毫米)氮化镓(GaN)功率半导体代工厂的运营,最快于2026年第二季度实现全面投产。该代工厂采用交钥匙服务模式,不涉及芯片设计环节,三星已建立相应的GaN解决方案体系,并具备自产外延晶圆的能力。据行业消息,该氮化镓代工厂初期营收规模预计在1000亿韩元(约合4.62亿元人民币)以内。 值得注意的是,台积电此前已宣布计划于2027年终止氮化镓晶圆生产,而三星半导体最初在2023年宣布2025年投产该业务,实际进度有所延迟。除氮化镓外,三星电子还计划推进碳化硅(SiC)功率半导体晶圆代工业务,两者可在不同耐压区间形成互补。
据外媒报道,三星电子即将启动8英寸(200毫米)氮化镓(GaN)功率半导体代工厂的运营,最快于2026年第二季度实现全面投产。该代工厂采用交钥匙服务模式,不涉及芯片设计环节,三星已建立相应的GaN解决方案体系,并具备自产外延晶圆的能力。据行业消息,该氮化镓代工厂初期营收规模预计在1000亿韩元(约合4.62亿元人民币)以内。
值得注意的是,台积电此前已宣布计划于2027年终止氮化镓晶圆生产,而三星半导体最初在2023年宣布2025年投产该业务,实际进度有所延迟。除氮化镓外,三星电子还计划推进碳化硅(SiC)功率半导体晶圆代工业务,两者可在不同耐压区间形成互补。
三星电子宣布,已与AMD签署谅解备忘录 (MOU),以扩大双方在下一代AI内存和计算技术方面的战略合作。根据该谅解备忘录,三星和AMD将在下一代AMD AI加速器、AMD Instinct MI455X GPU的主要HBM4供应以及代号为“Venice”的第六代AMD EPYC CPU的先进DRAM解决方案方面达成一致。这些技术将支持结合AMD Instinct GPU、AMD EPYC CPU和机架式架构(例如AMD Helios平台)的下一代AI系统。三星和AMD还将共同研发针对第六代AMD EPYC处理器的高性能DDR5内存。
据韩媒报道,三星电子工会宣布集体斗争行动议案以93.1%的赞成率获得通过,将于5月举行总罢工。分析指出,罢工一旦实施,平泽厂区约一半产能将受冲击,直接影响DRAM与NAND闪存芯片的产能释放。
美光科技近日在GTC 2026上宣布,已于2026年第一季度开始批量出货专为NVIDIA Vera Rubin平台设计的HBM4 36GB 12H显存。该产品数据传输速率超过11 Gb/s,提供超过2.8 TB/s的带宽,较上一代HBM3E带宽提升2.3倍,能效提升20%。此外,美光已向客户交付HBM4 48GB 16H样品,单颗容量提升33%。 同时,美光推出业界首款量产的PCIe Gen6数据中心SSD(Micron 9650),顺序读取速度达28 GB/s,性能为Gen5两倍,并针对NVIDIA BlueField-4架构优化。专为Vera Rubin设计的192GB SOCAMM2内存也已量产,支持高达2TB内存容量和每CPU 1.2 TB/s带宽。
美光科技近日在GTC 2026上宣布,已于2026年第一季度开始批量出货专为NVIDIA Vera Rubin平台设计的HBM4 36GB 12H显存。该产品数据传输速率超过11 Gb/s,提供超过2.8 TB/s的带宽,较上一代HBM3E带宽提升2.3倍,能效提升20%。此外,美光已向客户交付HBM4 48GB 16H样品,单颗容量提升33%。
同时,美光推出业界首款量产的PCIe Gen6数据中心SSD(Micron 9650),顺序读取速度达28 GB/s,性能为Gen5两倍,并针对NVIDIA BlueField-4架构优化。专为Vera Rubin设计的192GB SOCAMM2内存也已量产,支持高达2TB内存容量和每CPU 1.2 TB/s带宽。
2025-06-27 固态硬盘
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