受日圆走升影响，佳能下修年度财测、调降半导体微影设备销量预估

受日圆走升影响，日本半导体设备厂佳能宣布下修今年度财测，且调降半导体微影设备销量预估。

佳能公布上季(今年度第三季、2024年7-9月)财报：因镭射印表机等产品销售成长，带动合并营收较去年同期增加5.3%至1兆798亿日圆、营收创历年同期历史新高纪录，合并营业利润大增18.8%至982亿日圆、合并净利润成长10.7%至688亿日圆。

其中，以数码相机为主的影像事业营收较去年同期成长8.6%至2,396亿日圆、营业利润增长8.5%至436亿日圆；产业机器事业(包含半导体微影设备、FPD微影设备和OLED蒸镀设备等)营收减少9.6%至713亿日圆、营业利润减少11.2%至140亿日圆，该季度半导体微影设备销售量为49台(去年同期为50台)。

对于全年营收预估，佳能表示，因日圆汇率较原先预期走升，因此将今年度(2024年1-12月)合并营收目标自7月份预估的4.6兆日圆下修至4.54兆日圆、将年增8.6%，年营收将超越2007年度(4.48兆日圆)、创下历史新高纪录；合并营业利润自原先预估的4,650亿日圆下修至4,555亿日圆、将年增21.3 %；合并净利润目标自3,350亿日圆下修至3,250亿日圆、将年增22.9%。

此外，佳能还将今年度半导体微影设备销售量目标由原先预估的244台调降至239台、将较上年度(187台)大增28%；并预估本季(10-12月)半导体微影设备销售量为81台、将远高于去年同期的66台。

今年9月，佳能宣布采用「纳米压印(Nano-imprint Lithography；NIL)」技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备「FPA-1200NZ2C」已出货给美国半导体联盟「TIE」 。此前佳能曾表示，该微影设备售价仅ASML极紫外光(EUV)微影设备的几分之一。

由于纳米压印技术需使用软性材质的光刻胶材料，适合使用在规则性结构如DRAM和NAND FLASH，而逻辑芯片只有少部分的结构可以使用，因此纳米压印技术仍无法完全取代EUV微缩技术。