编辑:Andy 发布:2024-08-15 15:41
据韩媒报道,三星计划在今年年底或2025年第一季度引入其首台High-NA EUV光刻机「EXE:5000」,预计该设备将用于晶圆代工业务。
目前,ASML仅制造了8台EXE:5000设备,其中多台已经被英特尔公司预定。由于High-NA EUV设备需要处理13.5纳米波长的EUV光,其安装过程相当复杂和耗时。即便三星能在年底引进High-NA EUV设备,完成设备的安装和调试也需要较长时间,预计最快也要到2025年上半年才能开始实际的晶圆生产。
另据消息称,三星正与日本设备厂Lasertech合作开发High-NA光罩检测设备。使用High-NA EUV检测半导体光罩后,对比度较现有EUV可改善30%以上。
三星还在积极与新思科技、日本光阻剂制造商JSR、东京电子等公司在High-NA EUV技术领域进行合作,为2027年该技术的商业化应用做准备。
存储原厂 |
三星电子 | 56800 | KRW | +1.07% |
SK海力士 | 207500 | KRW | +1.47% |
铠侠 | 1982 | JPY | -0.65% |
美光科技 | 102.250 | USD | +4.15% |
西部数据 | 53.770 | USD | +3.03% |
闪迪 | 38.640 | USD | +3.51% |
南亚科技 | 45.85 | TWD | +0.11% |
华邦电子 | 16.70 | TWD | -1.18% |
主控厂商 |
群联电子 | 506 | TWD | +1.71% |
慧荣科技 | 64.990 | USD | +2.25% |
联芸科技 | 37.05 | CNY | -0.30% |
点序 | 52.8 | TWD | -1.49% |
品牌/模组 |
江波龙 | 70.75 | CNY | -0.60% |
希捷科技 | 123.230 | USD | +3.42% |
宜鼎国际 | 227.5 | TWD | -0.44% |
创见资讯 | 105.5 | TWD | +1.93% |
威刚科技 | 91.3 | TWD | +1.11% |
世迈科技 | 19.240 | USD | +5.95% |
朗科科技 | 22.06 | CNY | +0.09% |
佰维存储 | 57.92 | CNY | +3.28% |
德明利 | 105.91 | CNY | -0.20% |
大为股份 | 13.81 | CNY | -0.58% |
封测厂商 |
华泰电子 | 40.10 | TWD | +7.51% |
力成 | 116.0 | TWD | +2.20% |
长电科技 | 32.03 | CNY | -0.40% |
日月光 | 133.5 | TWD | -0.74% |
通富微电 | 23.26 | CNY | -0.77% |
华天科技 | 8.69 | CNY | -0.57% |
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