日本研发简化版EUV，可大幅降低芯片生产成本

据外媒报道，日本冲绳科学技术大学院大学 (OIST) 的 Tsumoru Shintake 教授研发一种全新且大大简化的EUV光刻工具，比 ASML 开发和制造的同类工具更便宜。如果该设备投入量产，或将重塑芯片制造设备行业，甚至整个半导体行业。

新系统在其光学投影设备中仅使用两个镜子，与传统的六镜配置有很大不同。这种光学系统的挑战在于它需要将这些镜子排列成一条直线，这确保了系统保持高光学性能，而不会出现与 EUV 光相关的常见失真。新的光路允许超过 10% 的初始 EUV 能量到达晶圆，而标准装置中只有约 1%，这一改进是一项重大突破。  

新系统解决了 EUV 光刻中的两大挑战：防止光学像差和确保高效的光传输。OIST 的“双线场”方法可以在不干扰光路的情况下照亮光掩模，从而最大限度地减少失真并提高硅片上的图像精度。

这种EUV光刻工具设计的另一个优势是其功耗大幅降低。得益于优化的光路，该系统仅使用 20W 的 EUV 光源运行，总功耗不到 100kW。相比之下，传统的 EUV 光刻系统通常需要超过 1MW 的功率。由于功耗较低，新的光刻系统不需要复杂且昂贵的冷却系统。

该新系统的性能已通过光学模拟软件进行了严格验证，证实了其生产先进半导体的能力。该技术的潜力已促使 OIST 申请专利，表明其已准备好进行商业部署。目前尚不清楚 OIST 距离其工具的商业化还有多远。

OIST致力于进一步改进其 EUV 工具设计，旨在将其投入实际应用。该研究所认为这项创新是解决全球挑战的重要一步，例如影响环境的芯片生产成本和半导体工厂的功耗。