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尼康即将发布新型ArF浸没式扫描仪:整体生产率提高10-15%

编辑:AVA 发布:2023-12-07 11:41

据日媒报道,尼康宣布将于2024年1月起发布ArF浸没式扫描仪“NSR-S636E”,作为关键层的曝光系统,该系统具有公司历史上最高的生产率,并具有高水平的套印精度和吞吐量。

该扫描仪提高了在线对准站(iAS)的测量精度,在曝光前对晶圆进行高速、高精度的多点测量,从而可以校正网格误差。尼康声称,它可以以较以往更高的精度测量晶圆翘曲、扭曲和其他变形,并实现了高重叠精度(MMO ≤ 2.1 nm)。

此外,吞吐量已增加至每小时280 发,并且通过减少停机时间,与当前型号相比,整体生产率提高了10-15%,已达到该司半导体光刻设备中最高的生产率水平。

此外,尼康表示,曝光设备在不牺牲生产率的情况下,在需要高重叠精度的半导体制造工艺中具有优异的性能,例如三维半导体,作为提高半导体性能的方法,这些工艺正在进一步进行技术开发。该公司表示,将针对半先进逻辑和存储器以及CMOS图像传感器和3D NAND等三维半导体的多样化需求提出最佳解决方案。

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