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佳能宣布开卖纳米压印设备

编辑:AVA 发布:2023-10-23 11:34

近期,日本半导体设备厂商佳能宣布开卖采用纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL) 技术的微影设备FPA-1200NZ2C,佳能表示纳米压印微影设备可用来生产现行最先进的5nm芯片,期望改良后可进一步用来生产2nm产品。

据悉,纳米压印跟封蜡印章的原理类似,先在表面涂光刻胶,再用做好的光罩模具压下,就可以做出像要的图案,因为纳米压印的模具能够重复压印,适用于大量制作光盘、芯片及太阳能电池内的微细结构。佳能为纳米压印技术研发出最佳的光刻胶材料,以及用于压印的纳米级对准技术,还实现清洁半导体的微粒控制技术,相较于已商用化的EUV技术,纳米压印技术的耗电量只需 EUV 的十分之一,金额只需EUV的40%,大幅减少耗能,并降低设备成本。

由于纳米压印技术需使用软性材质的光刻胶材料,适合使用在规则性结构如DRAM和NAND FLASH,而逻辑芯片只有少部分的结构可以使用,故纳米压印技术仍无法完全取代EUV微缩技术。

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