日本批准13亿美元补贴，协助美光广岛厂引进EUV设备

据媒体报道，日本政府已批准高达1,920亿日圆（约合13亿美元）补贴，支持美光在广岛厂生产新一代芯片，进一步强化日本本土的半导体制造基地。

日本经济产业大臣西村康稔日前表示，这笔经费将协助美光引进ASML生产先进芯片的极紫外微影（EUV）设备。这项补贴涵盖美光在日本近四成的投资计划。

西村表示，「虽然目前市况不佳，但在这种时候投资是不可少的。」其目的是为确保日本未来经济安全所需先进芯片供应无虞。

日本政府已备妥最高1,670亿日圆来支应美光的生产成本，另拨款最高250亿日圆来支应研发成本。美光已表示，计划在日本投资5,000亿日圆（约合33.5亿美元），以最先进制程1γ技术生产新一代芯片。