M16新厂首次导入EUV设备，SK海力士成立晶圆厂设备技术开发团队

据韩媒消息称，SK海力士已经成立了一个新的团队，专注于晶圆厂设备技术的开发，并聘请了专家，该小组将由SK海力士负责产品和生产的高层领导，直接向SK海力士半导体开发制造总裁Jin Kyo-won汇报，Jin负责DRAM和NAND Flash从开发到批量生产，提高运营效率。 

随着台积电向2nm，甚至1nm冲刺，对设备的要求也越来越高，再加上DRAM技术进入1Znm之后的微缩时代，也开始导入EUV设备，光刻机大厂ASML的极紫外光刻机(EUV)设备已在2020年12月中完成了第100台的出货，预估2021年其EUV设备产能可达45～50台规模。

三星从第四代10nm级(D1a)DRAM开始全面导入EUV，2021年更基于该技术将大规模量产DDR5和LPDDR5芯片。美光也已实现1-alpha DRAM的量产，按照计划提高产量，并在2022年成为主要生产力，不过对EUV设备的导入还在评估。

SK海力士竣工的新M16工厂将首先生产DRAM产品，并开始首次引进EUV光刻设备，从2021下半年开始生产1αnm DRAM产品。此前报道称，SK海力士已经向ASML签署了一项为期五年的采购合同，总价值约4.8兆韩元，用于购买EUV光刻机。

于此同时，韩国龙仁半导体产业园区的建设已经获得了批准，最快在2021下半年开始兴建园区。SK海力士作为主要的参与企业，将建4座半导体FAB工厂，计划投入122兆韩元，用于半导体生产与研究设施，并有意将龙仁市打造成为DRAM和下一代存储芯片的制造基地。

基于未来DRAM技术对设备的需求以及EUV设备的重要性，此前SK海力士内部就成立了研究小组，专门针对EUV光刻相关技术展开研究，如今由专家加入以及扩大阵容后的新团队，将更致力于加强与国际晶圆设备厂以及韩国本土设备开发商密切合作，加快新工厂投产以及导入新一代设备的进程。