据韩媒报道,三星电子计划将其京畿道平泽半导体基地的核心设施——P5 1号和2号工厂,从现有的"双层晶圆厂"结构升级为"三层晶圆厂"结构。旨在顺应全球AI半导体和存储器"超级周期",最大化产能。
规划修正案:容积率从350%提至490%
三星电子近期已向有关部门正式提交了《三星电子产业园区规划修正案》,将P5 1号和2号工厂的容积率上限从原来的350%大幅提升至最高490%,以支撑三层晶圆厂的建设。该修正案需经京畿道知事审核,并由国土交通部产业选址政策审议委员会批准后方可最终生效。
这一调整的政策基础来自2023年初韩国政府修订的《国土规划与利用法施行令》——将半导体等国家高新技术战略产业园区内一般工业区域的容积率上限从350%放宽至最高490%,即法定上限的1.4倍。
从双层到三层:产能跃升1.5倍以上
此前已投入运营的三星平泽P4工厂采用双层晶圆厂结构,一栋建筑内设有4间洁净室。而一旦修正案获批,从P5开始,工厂将升级为三层晶圆厂,最多可容纳6间洁净室。仅洁净室数量就增加了1.5倍,产能也将相应跃升超过1.5倍。
P5 1号和2号工厂建成后将成为按单体标准全球最大的半导体工厂。该项目于2022年启动建设,目标在2030年全面完工。该设施计划生产包括高带宽存储器(HBM)、尖端高规格DRAM、下一代V-NAND闪存以及先进制程代工在内的多种产品。
全球AI市场的爆发式增长,是推动半导体工厂从双层向三层扩展的根本原因。AI数据中心建设热潮引发了对HBM和大容量存储器的爆炸性需求,如何尽快抢占产能成为当务之急。

