三星美国泰勒晶圆厂3 月测试 EUV 光刻机,加速部署 2nm GAA 工艺

半导体 2026-01-20 10:32

据韩媒报道,三星电子将从今年 3 月起在其美国泰勒一号工厂测试 EUV 光刻机,随后陆续引进刻蚀、沉积等设备,计划今年下半年投产。

简讯快报

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