力积电:与美光合作1P制程2028年下半年量产

存储器 网络 Andy 2026-04-22 15:31

晶圆代工厂力积电日前于法说会上透露,与美光合作的1P制程已进入开发阶段,新机台预计2027年第1季搬入,2028年上半年完成试产,下半年进入量产。1P制程的晶圆颗粒数是现有主力制程平台的2.5倍,对未来DRAM产值增加将带来明显助益。

此外,与美光合作的HBM后段晶圆制造(PWF)产线已于新竹厂区扩建无尘室,预计2026年第3季开始机台搬入,2026年第4季开始试产,2027第4季进入量产,目标月产能2万片。

力积电总经理朱宪国表示,存储市场供给缺口可能延续到2026年下半年。力积电3月大幅调高DRAM代工价格,4月大幅调涨NAND Flash晶圆代工投片价格,预期涨价效应将自6月起显现。除了SLC,也与客户合作开发MLC,预计年底前完成制程开发,2027上半年可供客户设计定案。

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