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三星1c DRAM量产在即,干式光刻胶技术成关键

编辑:Andy 发布:2025-06-11 10:34

据韩媒报道,三星电子决定在1c DRAM生产中采用干式PR(光刻胶)技术,并已在平泽P4工厂完成相关设备安装。

干式PR在超精细工艺(如10纳米级别)中更具优势,可避免湿式PR因液体显影和剥离导致的图案变形问题,同时提高曝光精度,提高良率。

此外,业内人士称,使用干式PR时,对工艺参数变化的容许范围更广,相较于湿式PR,能够确保相对更宽的工艺容差。这意味着可以降低不良率,对确保高良品率更为有利。

三星此举旨在提升电路质量,减少信号干扰,为生产高可靠性DRAM(如HBM)奠定基础。

报道称,采用干式PR的1c DRAM预计明年量产,三星将成为首家在DRAM生产中应用干式PR技术的公司。

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