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报道称美光预计在1c nm级DRAM产品中应用金属钼和钌

编辑:AVA 发布:2024-02-01 11:39

据韩媒报道,为减少DRAM产品的线宽,美光预计在1c nm级DRAM产品的字线(word line)和位线(bit line)中应用金属钼和钌。

在1a和1b nm级DRAM产品中字线和位线应用的是金属钨,金属钼和钌的电阻率比钨更低,因此可以减少DRAM产品的线宽。

据悉,美光将是业界第一家将钼和钌应用在DRAM产品上的企业,预计三星电子和SK海力士将在1c nm级DRAM中继续使用钨。

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股市快讯 更新于: 08-23 06:54,数据存在延时

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