ASML:High NA EUV迈向量产,累计已有10台投入运作

半导体 2026-09-01 16:58

ASML近日透露High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)最新进展,目前全球已有4家客户完成共10台High NA EUV装机并投入运作,另有3台正在出货及装机中,全球EXE系统累计曝光晶圆数已突破135万片。High NA EUV正迈向高量产阶段,并已首度应用于高量产逻辑产品,成为先进制程持续微缩的重要技术平台。

简讯快报

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