中微公司发布两款刻蚀设备,直击存储芯片制造

半导体 2026-03-30 18:53

近期,中微公司推出四款覆盖硅基及化合物领域的半导体制造设备。其中,两款刻蚀设备与存储芯片制造直接相关。

新一代电感耦合ICP等离子体刻蚀设备Primo Angnova™,面向先进节点高深宽比刻蚀需求,可为5纳米及以下逻辑芯片以及同等技术难度的先进存储芯片制造,提供自主可控的ICP刻蚀工艺解决方案。

高选择性刻蚀机Primo Domingo™,针对GAA、3D NAND、DRAM等器件工艺需求推出,攻克了高选择比刻蚀难题,填补了国内在下一代3D半导体器件制造中关键刻蚀工艺的自主化空白。

简讯快报

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