消息称SK海力士正开发新技术AIP以降低NAND制造成本

存储器 2026-02-11 16:41

据韩媒报道,SK海力士正在开发名为“AIP(All-In-Plug)”的创新技术,以缓解因堆叠层数增加而带来的成本增长。据悉,为实现高堆叠NAND而增加的HARC蚀刻工艺数量是导致制造成本上升的最大因素。传统制造方法需要分别对多个NAND层进行蚀刻,通过键合工艺连接起来,而AIP可在单次工艺中对超过300层的高密度NAND闪存一次性进行HARC蚀刻,将显著降低制造成本。如果这项技术应用于实际量产,预计从下一代NAND闪存(例如V11)开始,HARC工艺的数量和成本将显著降低。
 

简讯快报

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