据韩媒报道,三星电子晶圆代工事业部副总裁宋泰俊今日表示,三星电子晶圆代工事业部计划明年将把多项目晶圆(MPW)工艺扩大至2纳米。
2纳米工艺是目前已商业化的最尖端工艺,由于其制造难度极高,目前仅应用于人工智能和高性能计算(HPC)等特定超高性能半导体领域。
MPW(多项目晶圆)是一种服务,代工厂将多家无晶圆厂公司开发的芯片堆叠在同一晶圆上,从而批量生产原型产品。由于无需支付整个晶圆的成本,无晶圆厂公司可以减轻研发成本负担。三星此举预计将加速韩国国内无晶圆厂(Fabless)企业在超高性能人工智能(AI)半导体领域的研发进程。
从具体计划来看,2纳米和4纳米工艺计划在明年进行7次MPW,5至28纳米工艺计划进行11次MPW。如果考虑到较早的8英寸工艺,预计总的MPW次数将进一步增加。
宋泰俊还表示,三星晶圆代工正以“SAFE”为名,与周边生态系统一道扩展和开发最尖端工艺。此外,还将通过AI半导体 M.AX 联盟,全力支持K-On-Device需求企业、无晶圆厂以及合作伙伴企业实现其目标。

