编辑:Andy 发布:2024-11-26 16:11
据业界消息,三星电子最近制定了工艺路线图,在最新的3D NAND闪存工艺中将PR(光刻胶)应用量减少近一半,从而成功降低成本。
此前,每次涂抹使用量为7-8cc,改进工艺后,用量已减少至4-4.5cc。三星电子采用了调整施加PR的涂布机设备的旋转量,并在施加后调整蚀刻条件的方法,从而减少了PR的使用量。
存储原厂 |
三星电子 | 59500 | KRW | -0.67% |
SK海力士 | 235500 | KRW | -1.88% |
铠侠 | 2088 | JPY | -4.70% |
美光科技 | 116.180 | USD | +0.13% |
西部数据 | 55.780 | USD | +0.20% |
闪迪 | 41.300 | USD | +2.66% |
南亚科技 | 54.1 | TWD | +2.66% |
华邦电子 | 18.80 | TWD | 0.00% |
主控厂商 |
群联电子 | 542 | TWD | +0.18% |
慧荣科技 | 67.470 | USD | +0.72% |
联芸科技 | 38.14 | CNY | -0.73% |
点序 | 59.5 | TWD | -2.94% |
品牌/模组 |
江波龙 | 73.32 | CNY | -0.01% |
希捷科技 | 126.070 | USD | -0.33% |
宜鼎国际 | 244.5 | TWD | -0.81% |
创见资讯 | 105.0 | TWD | -3.23% |
威刚科技 | 96.7 | TWD | -1.12% |
世迈科技 | 20.040 | USD | -1.67% |
朗科科技 | 22.47 | CNY | +0.13% |
佰维存储 | 59.58 | CNY | -1.13% |
德明利 | 122.63 | CNY | +1.87% |
大为股份 | 15.61 | CNY | -3.04% |
封测厂商 |
华泰电子 | 41.20 | TWD | +1.23% |
力成 | 130.0 | TWD | 0.00% |
长电科技 | 32.12 | CNY | -0.56% |
日月光 | 145.0 | TWD | -0.34% |
通富微电 | 23.33 | CNY | -0.89% |
华天科技 | 8.82 | CNY | -0.11% |
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