编辑:AVA 发布:2022-09-22 11:29
据韩媒报道,三星已经取消了增加光刻胶供应商的计划。消息人士称,该公司曾与至少四家潜在的日本供应商接触,包括世界上最大的光刻胶制造商东京应化工业,但这些公司都无法满足三星的厚度要求。到目前为止,三星电子的 3D NAND光刻胶由东进半导体独家供应。
PR是曝光过程中使用的关键材料。在曝光的过程中,根据光源的类型,使用氟化氪 (KrF) 准分子激光器、氟化氩 (ArF) 准分子激光器和浸没式 ArF 设备。在 3D NAND 闪存的情况下,将其堆叠高比像现有工艺那样缩小线宽更重要。因此,在曝光过程中,KrF比ArF使用得更多。而3D NAND 的 KrF 光刻胶的核心是厚度。
在量产第一代 3D NAND 闪存之前,三星电子与东进半导体深度合作,并公开所有工艺步骤来鼓励开发。通过两家公司的合作,东进半导体成功开发出比现有 KrF光刻胶厚 30% 的材料。
 
                    | 存储原厂 | 
| 三星电子 | 107500 | KRW | +3.27% | 
| SK海力士 | 559000 | KRW | -1.58% | 
| 铠侠 | 10825 | JPY | -0.69% | 
| 美光科技 | 220.920 | USD | -1.38% | 
| 西部数据 | 143.865 | USD | +4.15% | 
| 闪迪 | 193.910 | USD | -0.98% | 
| 南亚科技 | 132.5 | TWD | -1.49% | 
| 华邦电子 | 54.2 | TWD | -1.81% | 
| 主控厂商 | 
| 群联电子 | 1065 | TWD | -4.05% | 
| 慧荣科技 | 95.605 | USD | -4.36% | 
| 联芸科技 | 57.18 | CNY | -5.95% | 
| 点序 | 78.6 | TWD | -1.87% | 
| 品牌/模组 | 
| 江波龙 | 261.31 | CNY | -7.66% | 
| 希捷科技 | 251.000 | USD | -6.46% | 
| 宜鼎国际 | 431.0 | TWD | +0.58% | 
| 创见资讯 | 132.5 | TWD | -1.12% | 
| 威刚科技 | 198.0 | TWD | -0.50% | 
| 世迈科技 | 22.345 | USD | -0.42% | 
| 朗科科技 | 30.45 | CNY | -3.97% | 
| 佰维存储 | 131.00 | CNY | -3.46% | 
| 德明利 | 228.24 | CNY | +0.95% | 
| 大为股份 | 28.02 | CNY | +3.89% | 
| 封测厂商 | 
| 华泰电子 | 48.60 | TWD | +0.83% | 
| 力成 | 173.0 | TWD | -2.26% | 
| 长电科技 | 40.02 | CNY | -3.80% | 
| 日月光 | 247.5 | TWD | +10.00% | 
| 通富微电 | 42.45 | CNY | -4.99% | 
| 华天科技 | 12.06 | CNY | -1.71% | 
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