消息称中国首次实现DUV光刻设备量产,首批年内交付头部晶圆厂

半导体 2026-07-28 09:56

据外媒报道,国内某国资背景企业已正式开始量产自主研发的浸没式深紫外(DUV)光刻机,标志着中国在关键芯片制造设备领域取得重大突破。该设备主攻28纳米浸没式DUV技术,整机国产化率超过85%,核心子系统均实现自研。量产计划方面,预计2026年内生产约5台,2027年将产能提升至约20台。首批设备将于今年8月起陆续交付给中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等国内头部晶圆制造商,初期将主要用于产线测试与工艺验证。

简讯快报

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