ASML:EUV光源突破至1000瓦,2030年芯片产能可提升50%

半导体 2026-02-24 09:27

当地时间2月23日,ASML宣布极紫外(EUV)光刻光源技术取得重大突破,成功将光源功率从600瓦提升至1000瓦。更高的功率可显著缩短芯片曝光时间,从而提高每小时晶圆处理量,降低单颗芯片成本。ASML表示,到2030年,升级后的设备每小时可处理约330片晶圆,较目前的220片提升50%。根据芯片尺寸差异,每片晶圆可产出数百至数千颗芯片,这意味着芯片整体产能有望提升高达50%。

简讯快报

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