据韩媒THE ELEC报道,SK海力士计划依托其位于中国无锡的晶圆厂,为济州半导体推进LPDDR系列存储芯片的量产。这一规划反映了SK海力士在当前复杂的全球半导体环境下,对无锡工厂进行的差异化定位与产能优化。
无锡工厂承接LPDDR系列,量产目标锁定2030年
根据双方规划,SK海力士无锡工厂将作为此次合作的生产基地,采取分期量产策略。先期合作的LPDDR4X产品计划于2028年左右实现量产,而LPDDR5的量产目标则锁定在2030年,目前具体的生产规模仍在评估中。
差异化定位应对设备限制
针对无锡工厂的未来定位,SK海力士正逐步构建清晰的差异化生产格局。受限于外部出口管制政策,无锡工厂目前无法引入极紫外(EUV)光刻设备。为此,SK海力士采取了“分段制造”等灵活策略,将无锡工厂的战略重心定位于大规模生产通用型及传统DRAM产品。这一布局旨在发挥无锡工厂现有的制造优势,承接LPDDR4X等市场需求依然强劲的传统产品订单。
创新合作模式
此次合作中,济州半导体直接参与LPDDR DRAM的产品设计,SK海力士则提供晶圆代工与量产制造支持,最终产品将以“济州半导体”的品牌推向终端市场。业内分析指出,这种模式有助于解决大型存储企业在传统市场需求调配设计人员方面的痛点,同时也为韩国本土设计企业提供了制造支持。
双线布局战略
SK海力士与济州半导体的合作,是其无锡工厂整体战略的一部分。作为SK海力士全球DRAM生产的核心基地之一,无锡工厂目前月产能稳定在约20万片12英寸晶圆,承担了SK海力士全球30%至40%的DRAM产量。
近年来,SK海力士持续对无锡工厂进行投资,累计完成7次增资。在推进LPDDR等传统产品量产的同时,无锡工厂也在推进1a纳米(第四代10纳米级)DRAM制程,量产DDR5、LPDDR5X等产品,以应对AI服务器对高速内存的需求。
1a DRAM 需要采用极紫外 (EUV) 光刻技术,受出口限制影响,EUV设备无法进口到中国。作为替代方案,SK 海力士采用了在韩国完成精细电路实现所需的 EUV 工艺,在无锡完成剩余工序的方法。尽管工艺复杂且物流成本高昂,但无锡工厂转型为 1a 工艺生产线被视为对其至关重要的体现。
整体来看,SK海力士正逐步形成“中国无锡工厂主攻通用型与传统DRAM产品、韩国本土工厂专注尖端DRAM产品”的双线布局。这种策略旨在保持供应链的稳定性,并在全球产能竞争中维持市场竞争力。

