三星TLC技术运用到3D闪存制造上 存储密度可再度提升

存储器 中国闪存市场 Helan 2014-07-08 11:31

三星已在自家的850 Pro系列SSD上采用了3D闪存技术(又称V-NAND)芯片,而它看起来也会成为传统闪存的有力继任者。该方法避开了传统平面(2D)制造过程中所面临的“制程缩小、干扰增大”等问题,从理论上来讲,通过相互堆叠多层单元,V-NAND可实现更高的存储密度。不过,多层堆叠并不是三星唯一的武器,因为该公司早就开始运用3bit的TCL技术了。

在韩国首尔举办的SSD全球峰会上,三星在问答环节期间宣布了3bit V-NAND计划。我们预计,三星会在今年晚些时候推出“更高存储密度”的第二代入门级TLC V-NAND驱动器。

三星发布全球首款32层堆栈的TLC V-NAND闪存,其原理其实跟MLC V-NAND是一样的,主要就是每cell单元储存2bit还是3bit数据的差别,而V-NAND技术部分是差不多的。根据三星所述,TLC V-NAND闪存相比传统的平面闪存的密度提升了1倍。

TLC V-NAND闪存相比传统的平面闪存的密度提升了1倍

V-NAND技术原理

对于消费级固态硬盘来说,TLC的缺点在很大程度上有些无关紧要。在三星840系列SSD的耐久度实验中,TLC产品甚至可在烧录了数百TB的数据后才挂掉,而这已经远远超过了一般人的需要。

至于840 EVO系列SSD,更是巧妙地运用了SLC高速缓存来抵消TLC较慢的写入速度。综上所述,三星应该理应拿得出令消费者信服的TLC V-NAND产品。

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