在半导体内存行业,美国美光科技(Micron Technology)的地位在不断提高。该公司2010年2月宣布收购第一大NOR闪存厂商瑞士恒忆(Numonyx B.V.)。除DRAM、NAND闪存外,该公司今后还将涉足NOR闪存、MCP(Multi-chip Package,多芯片封装)乃至相变内存(PCM),变身为业内的“全能选手(All-around Player)”。在半导体内存业务方面,该公司一直保持着微细化领跑者的优势。该公司与英特尔合作开发的NAND闪存目前已开始样品供货25nm工艺产品。
在NAND闪存微细化竞争中美光一直在采取攻势
与英特尔合资成立的NAND闪存制造公司(IM Flash Technologies)后,我们第一个量产的是70nm工艺产品。在该工艺领域,我们处于微细化的最后尾。之后,我们跳过6Xnm工艺向50nm工艺推进微细化,进入了中间一级梯队。接着,又跳过4Xnm工艺向34nm工艺推进,从而迈进了微细化的前列。为了在更加微细化的工艺上也能够保持领先地位,我们还将在2010年6月之前量产25nm工艺产品。届时将量产基于2bit/单元多值技术的64Gbit产品。一般而言,在工艺上跨级推进微细化通常伴有风险,但美光仍然甘冒这个风险。
在3bit/单元以上的“超多值技术”方面,量产进程一直落后于其他公司。为何?
超多值技术视为微细化步幅减缓时的一种“保险”。换句话说,当微细化开发因某种原因而停滞时,这种大容量化技术才发挥替代作用。事实上,早在 2009年10~12月时我们就已能够量产34nm工艺的3bit/单元产品了。不过,在25nm工艺的微细化开发上进展顺利,因此目前优先考虑的是尽快量产25nm产品。这样,便放弃了量产34nm工艺3bit/单元产品的想法。而在25nm工艺方面,打算在2010年内量产3bit/单元产品。因为要使25nm以后的工艺实现量产,还需要等待很长一段时间。
5nm以后的工艺何时能够实现量产,将采用什么样的单元技术?
估计要等到2011年下半年~2012年初。除了现有的浮游栅技术之外,目前还在研究电荷捕获技术等多项单元技术。对于电荷捕获技术这样的新技术,要确定其生命力能够延续到的工艺程度,这十分重要。
尽管贵公司是微细化的领跑者,但在可谓NAND闪存主战场的便携音乐播放器及智能电话等领域,贵公司的应用业绩却似乎一直落后于其他公司。
寄望于今后的发展。相信这一状况会彻底改变。为了借助新一代便携终端架构在Design-in方面胜出,正在推进与芯片组装厂商等的合作。此外,还将提供“EZ-NAND”等解决方案,以降低NAND闪存的运行控制芯片(控制器)给终端(主机)造成的负荷。
按金额计算,在NAND闪存市场上的份额目前在10%左右。今后计划提高到什么程度?
最低也要达到15~20%。与合资业务伙伴,也就是英特尔进行合计的话,目前份额已经达到了约15%。在收购恒忆之后,估计业务规模会进一步扩大。
IM Flash Technologies公司的旗舰工厂即新加坡工厂的启动进程缓慢。该工厂何时开始量产?
新加坡工厂的投资问题,的确是我们尚未落实的重大事项。虽然清洁室的建设已于2009年完工,但即使马上安装制造设备,早快也要到2011年才能开始量产。将根据市场的动向,在确信需求呈扩大趋势时,再着手向该工厂进行设备投资。