东芝、尔必达计画扩大资本支出 股价盘中连袂涨逾3%

半导体 中国闪存市场 Helan 2009-12-22 11:22
日经新闻社报导指出,东芝与尔必达两家业者计画扩大资本支出来增加半导体产量,以跟上三星电子的脚步。
报导指出,东芝方面计画投注1,000亿日圆(11亿美元)的资金,为旗下NAND快闪记忆体厂房增添设备。
尔必达方面则是计划将广岛DRAM厂房的支出预算,由原先的400亿日圆,向上调升至600亿日圆。
东芝周二盘中股价上涨15日圆或3.03%,报510日圆;尔必达股价上扬44日圆或3.32%,成为1,370日圆;三星电子扬升2,000韩元或0.26%,成为773,000韩元。

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