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消息称铠侠2026年开始生产332层NAND Flash

编辑:Andy   发布:2025-12-11 15:26

据日媒报道称,为抢攻AI数据中心需求,铠侠将在2026年利用岩手北上工厂开始生产第10代的NAND Flash,其堆叠数从现行第8代的218层增加至332层,每单位面积的存储容量提升59%、数据传输速度改善33%,能耗也会降低。

报道称,铠侠不会兴建新厂,而是采用今年9月投产的北上工厂第2厂房(K2)生产第10代NAND Flash。

铠侠、Sandisk 9月30日宣布,位于日本岩手县北上市的北上工厂第2厂房(K2)已开始进行投产。因AI普及、NAND Flash中长期需求看增,Fab2将生产第八代218层3D闪存,采用CBA(CMOS直接键合阵列)技术,并支持未来先进的3D闪存节点,以满足人工智能驱动的存储市场日益增长的需求。Fab2的产能将根据市场趋势逐步提升,预计将于2026年上半年实现量产。

企业信息
公司总部
公司名称:
铠侠电子
地点:

日本东京都港区芝浦 3-1-21 108-0023

成立时间:
2017
所在地区:
日本
联系电话:
400-818-0280

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