编辑：Andy 发布：2025-12-15 10:06
ASML CEO Christophe Fouquet近日在接受媒体采访时称，预计High NA EUV 光刻机将于2027~2028年正式投入先进制程的大规模量产作业中。
新一代High-NA EUV光刻机采用0.55数值孔径镜头与非等倍率光学技术，可将电路尺寸推进至2纳米以下，进一步提升芯片性能。目前英特尔、台积电、三星已开始试验此设备，英特尔支持 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年正式推出。
此外，ASML已启动更先进的Hyper NA技术研发，为下一个十年的芯片制造铺路。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 138800 | KRW | -1.56% |
| SK海力士 | 756000 | KRW | +1.89% |
| 铠侠 | 13000 | JPY | +2.44% |
| 美光科技 | 323.290 | USD | -4.79% |
| 西部数据 | 183.475 | USD | -8.21% |
| 闪迪 | 316.810 | USD | -10.39% |
| 南亚科技 | 241.5 | TWD | +0.21% |
| 华邦电子 | 108.5 | TWD | +1.88% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 1700 | TWD | +1.49% |
| 慧荣科技 | 111.560 | USD | -7.90% |
| 联芸科技 | 53.38 | CNY | -0.15% |
| 点序 | 107.5 | TWD | +5.39% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 283.90 | CNY | -3.09% |
| 希捷科技 | 284.385 | USD | -7.75% |
| 宜鼎国际 | 645 | TWD | -1.53% |
| 创见资讯 | 257.5 | TWD | +8.19% |
| 威刚科技 | 286.0 | TWD | -1.38% |
| 世迈科技 | 19.290 | USD | +3.82% |
| 朗科科技 | 29.18 | CNY | +4.10% |
| 佰维存储 | 126.50 | CNY | -1.92% |
| 德明利 | 239.81 | CNY | -4.08% |
| 大为股份 | 28.50 | CNY | +0.35% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 56.5 | TWD | +0.89% |
| 力成 | 203.0 | TWD | -1.22% |
| 长电科技 | 38.98 | CNY | -0.26% |
| 日月光 | 273.5 | TWD | -0.55% |
| 通富微电 | 40.00 | CNY | -0.20% |
| 华天科技 | 11.51 | CNY | +0.52% |
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