编辑：Andy 发布：2025-12-15 10:06
ASML CEO Christophe Fouquet近日在接受媒体采访时称，预计High NA EUV 光刻机将于2027~2028年正式投入先进制程的大规模量产作业中。
新一代High-NA EUV光刻机采用0.55数值孔径镜头与非等倍率光学技术，可将电路尺寸推进至2纳米以下，进一步提升芯片性能。目前英特尔、台积电、三星已开始试验此设备，英特尔支持 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年正式推出。
此外，ASML已启动更先进的Hyper NA技术研发，为下一个十年的芯片制造铺路。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 105200 | KRW | +2.33% |
| SK海力士 | 540000 | KRW | +1.89% |
| 铠侠 | 9119 | JPY | +4.96% |
| 美光科技 | 232.510 | USD | -2.10% |
| 西部数据 | 174.575 | USD | +1.47% |
| 闪迪 | 209.310 | USD | +3.69% |
| 南亚科技 | 164.5 | TWD | +4.11% |
| 华邦电子 | 73.8 | TWD | +4.53% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 1095 | TWD | +4.78% |
| 慧荣科技 | 85.500 | USD | -1.80% |
| 联芸科技 | 43.35 | CNY | -1.45% |
| 点序 | 67.7 | TWD | +2.11% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 246.16 | CNY | +2.39% |
| 希捷科技 | 288.130 | USD | +0.89% |
| 宜鼎国际 | 503 | TWD | +4.47% |
| 创见资讯 | 181.5 | TWD | +6.76% |
| 威刚科技 | 196.5 | TWD | +9.47% |
| 世迈科技 | 19.690 | USD | -2.43% |
| 朗科科技 | 24.78 | CNY | -1.39% |
| 佰维存储 | 108.84 | CNY | +1.97% |
| 德明利 | 199.91 | CNY | +0.21% |
| 大为股份 | 24.53 | CNY | +0.37% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 51.3 | TWD | +5.23% |
| 力成 | 163.5 | TWD | +5.14% |
| 长电科技 | 35.23 | CNY | -0.42% |
| 日月光 | 227.5 | TWD | -0.66% |
| 通富微电 | 35.38 | CNY | +0.26% |
| 华天科技 | 10.51 | CNY | -0.28% |
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