荷兰政府发布新规限制ASML浸润式DUV光刻机出口

9月6日，荷兰政府公布针对ASML浸润式DUV光刻机出口的新规定，要求自9月7日起，ASML需向荷兰政府申请出口许可证，才能发运其TWINSCANNXT：1970i和1980i DUV光刻机。这一变化意味着ASML不再需要向美国政府申请出口许可证，而是转向荷兰政府，以符合美国出口管理条例734.4（a）（3）的要求。

荷兰贸易部长雷内特·克莱弗表示，这一决定是基于国家安全考虑，因为技术发展使得特定生产机器的出口存在更多安全风险。尽管美国和荷兰仍在就出口政策进行谈判，但荷兰政府的这一决定有助于缓解两国政府间的紧张关系。

ASML发言人Monique Mools指出，预计新规不会对公司2024年的财务前景产生影响，也不会影响2022年11月投资者日期间所传达的长期前景。荷兰首相迪克·绍夫在谈及与美国讨论对华半导体设备出口的新限制时表示乐观，这些谈判的结果可能对半导体行业产生重大影响，尤其是对ASML等在全球供应链中占据核心地位的公司。