编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 54300 | KRW | -2.16% |
| SK海力士 | 186000 | KRW | +4.79% |
| 铠侠 | 1825 | JPY | -0.44% |
| 美光科技 | 79.940 | USD | +2.79% |
| 西部数据 | 44.790 | USD | +1.91% |
| 闪迪 | 34.590 | USD | +6.14% |
| 南亚科 | 35.65 | TWD | -0.97% |
| 华邦电子 | 15.95 | TWD | +1.27% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 454.5 | TWD | +1.56% |
| 慧荣科技 | 52.935 | USD | +5.18% |
| 联芸科技 | 41.35 | CNY | +1.95% |
| 点序 | 55.0 | TWD | -0.72% |
| 国科微 | 68.93 | CNY | -0.68% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 77.91 | CNY | +3.33% |
| 希捷科技 | 92.215 | USD | +2.45% |
| 宜鼎国际 | 238.5 | TWD | +2.36% |
| 创见资讯 | 101.5 | TWD | +1.50% |
| 威刚科技 | 85.7 | TWD | +2.39% |
| 世迈科技 | 17.280 | USD | +2.19% |
| 朗科科技 | 25.09 | CNY | +4.24% |
| 佰维存储 | 62.33 | CNY | +1.32% |
| 德明利 | 127.50 | CNY | +0.73% |
| 大为股份 | 14.18 | CNY | +2.09% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 32.10 | TWD | +0.63% |
| 力成 | 109.0 | TWD | +0.46% |
| 长电科技 | 33.43 | CNY | +1.24% |
| 日月光 | 139.0 | TWD | +2.58% |
| 通富微电 | 25.62 | CNY | +0.99% |
| 华天科技 | 9.28 | CNY | -5.31% |
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