编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 138800 | KRW | -0.14% |
| SK海力士 | 749000 | KRW | +0.67% |
| 铠侠 | 12690 | JPY | -2.38% |
| 美光科技 | 345.260 | USD | +0.05% |
| 西部数据 | 206.180 | USD | +2.85% |
| 闪迪 | 381.900 | USD | +1.19% |
| 南亚科技 | 239.0 | TWD | +9.89% |
| 华邦电子 | 102.0 | TWD | +4.29% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 1775 | TWD | +8.90% |
| 慧荣科技 | 116.390 | USD | +2.89% |
| 联芸科技 | 52.45 | CNY | +0.96% |
| 点序 | 100.5 | TWD | +1.21% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 285.32 | CNY | +2.80% |
| 希捷科技 | 311.980 | USD | +2.62% |
| 宜鼎国际 | 627 | TWD | +1.46% |
| 创见资讯 | 237.0 | TWD | -1.86% |
| 威刚科技 | 274.0 | TWD | +6.41% |
| 世迈科技 | 19.370 | USD | +1.52% |
| 朗科科技 | 29.15 | CNY | +2.89% |
| 佰维存储 | 129.76 | CNY | +2.85% |
| 德明利 | 239.99 | CNY | +2.10% |
| 大为股份 | 28.66 | CNY | +3.50% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 59.9 | TWD | +4.54% |
| 力成 | 220.0 | TWD | +10.00% |
| 长电科技 | 43.68 | CNY | +6.07% |
| 日月光 | 283.0 | TWD | +4.04% |
| 通富微电 | 42.26 | CNY | +1.03% |
| 华天科技 | 12.14 | CNY | +3.67% |
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