编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 57200 | KRW | -1.89% |
| SK海力士 | 248000 | KRW | +5.31% |
| 铠侠 | 2009 | JPY | -0.05% |
| 美光科技 | 118.710 | USD | +2.69% |
| 西部数据 | 56.780 | USD | +1.94% |
| 闪迪 | 43.120 | USD | +1.46% |
| 南亚科技 | 52.9 | TWD | -1.12% |
| 华邦电子 | 18.40 | TWD | -0.27% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 531 | TWD | +0.95% |
| 慧荣科技 | 67.380 | USD | +0.63% |
| 联芸科技 | 37.48 | CNY | +0.19% |
| 点序 | 56.2 | TWD | -1.40% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 71.61 | CNY | +0.53% |
| 希捷科技 | 128.760 | USD | +1.17% |
| 宜鼎国际 | 238.0 | TWD | +1.28% |
| 创见资讯 | 102.5 | TWD | -0.97% |
| 威刚科技 | 95.4 | TWD | -0.31% |
| 世迈科技 | 19.500 | USD | +1.14% |
| 朗科科技 | 21.93 | CNY | +1.76% |
| 佰维存储 | 59.09 | CNY | +1.37% |
| 德明利 | 120.94 | CNY | +0.97% |
| 大为股份 | 15.36 | CNY | +1.59% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 41.00 | TWD | +0.49% |
| 力成 | 132.0 | TWD | +1.93% |
| 长电科技 | 31.94 | CNY | +0.13% |
| 日月光 | 145.0 | TWD | +1.05% |
| 通富微电 | 23.30 | CNY | +0.87% |
| 华天科技 | 8.76 | CNY | +0.23% |
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