编辑：AVA 发布：2024-06-19 11:37
日本三井化学近日宣布，将开始量产半导体最尖端光刻机的光掩模防护膜新品，计划在日本山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张，生产线预计于2025年12月完工。可支持ASML将推出的下一代光刻机。
三井化学最新光掩模防护膜（pellicle）用于保护光掩模的清洁，需要具备高透明度和耐用性。2023年，三井化学与比利时的微电子研究中心imec携手合作，致力于推动极紫外（EUV）技术下碳纳米管制成的pellicle的商业化进程。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 67050 | KRW | +0.52% |
| SK海力士 | 270000 | KRW | +0.19% |
| 铠侠 | 2344 | JPY | -2.90% |
| 美光科技 | 113.260 | USD | -2.72% |
| 西部数据 | 67.020 | USD | +0.74% |
| 闪迪 | 41.520 | USD | +0.39% |
| 南亚科技 | 42.70 | TWD | -0.93% |
| 华邦电子 | 17.80 | TWD | -0.56% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 511 | TWD | +0.20% |
| 慧荣科技 | 73.160 | USD | +2.55% |
| 联芸科技 | 41.60 | CNY | 0.00% |
| 点序 | 53.3 | TWD | -1.66% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 82.47 | CNY | -0.90% |
| 希捷科技 | 146.720 | USD | -0.27% |
| 宜鼎国际 | 225.5 | TWD | -2.38% |
| 创见资讯 | 91.7 | TWD | -0.11% |
| 威刚科技 | 92.9 | TWD | -0.54% |
| 世迈科技 | 24.880 | USD | +1.02% |
| 朗科科技 | 24.42 | CNY | +2.48% |
| 佰维存储 | 63.80 | CNY | -1.50% |
| 德明利 | 82.95 | CNY | -0.86% |
| 大为股份 | 17.21 | CNY | -0.46% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 38.45 | TWD | +0.52% |
| 力成 | 139.0 | TWD | -0.36% |
| 长电科技 | 34.01 | CNY | +0.15% |
| 日月光 | 154.5 | TWD | +1.98% |
| 通富微电 | 26.00 | CNY | -0.19% |
| 华天科技 | 10.02 | CNY | +1.01% |
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