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韩媒:SK Siltron成功开发EUV DRAM晶圆,将供应给三星、SK海力士

编辑:AVA 发布:2022-09-08 16:49

据韩媒报道,有消息称SK Siltron已开始供应新一代存储器用晶圆给三星电子、SK海力士等,期望打破日本业者寡占局面,加速推动韩国半导体材料自产化大业。

报道称,SK Siltron已于6月完成10nm级第四代(1a)DRAM的抛光晶圆开发,预计2022年下半起开始供应三星、SK海力士等。

目前应用最广泛的硅晶圆,主要可分为抛光(polished)和磊晶(epitaxial)晶圆两种。抛光晶圆是以高纯度多晶硅加工制成,用于DRAM、NAND Flash等,磊晶晶圆则是将厚度几微米(µm)的硅单晶层,蒸镀到抛光晶片上,主要用于系统半导体。据悉SK Siltron此次开发并量产的晶圆,主要是用于最新10nm级DRAM。

三星、SK海力士已在第四代(1a)DRAM导入极紫外光(EUV)制程。EUV是新一代曝光技术,采用荷兰ASML独家生产的设备。由于EUV与现有的光波长,具有不同特性,因此须采用不同材料,而开发1a DRAM晶圆的难度同样很高。

据了解,SK Siltron加入供应之前,只有日本胜高和信越化学能够供应,2021年下半量产1a DRAM的三星、SK 海力士,先前仅使用日本生产的晶圆。

相关人士表示,1a DRAM占比不断提高的情况下,SK Siltron研发成功与量产,无疑帮助韩国实现材料供应链多元化,从韩国国产化大业角度而言别具意义。SK海力士传计划2022年底前1a DRAM占比将提升至产量的4分之1左右。

另一方面,2021年SK Siltron的12英寸晶圆市占率约18%左右,排名业界第三,而胜高市占30%、信越化学市占25%,最近2~3年间SK Siltron正在大幅缩小落后差距。

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