台系DRAM厂再次面临报价崩盘的重大冲击,消极的因应方式是祭出减产策略,而积极因应方式则是加强制程微缩速度,进一步降低成本,但资金不足成为台湾DRAM厂想积极也积极不起来的最大致命伤,光是抢设备大战,台厂就因为资金不足而没有预订浸润式曝光(Immersion Scanner)机台,导致2010年各厂50奈米和40奈米制程的时程都被延宕下来,现在设备天险转进1台要价高达1亿美元的深紫外光(EUV)机台,台厂资金能力早已无法负荷。
过去DRAM制程走到50奈米制程以下,原本的193奈米曝光机已不堪使用,进而转进采用浸润式曝光机台;当时主导的设备商一度希望从193曝光机台可直接转进用EUV机台,但台积电研发出在光源与晶圆中间加入水的原理,使波长缩短到132奈米的微影技术,因此才有浸润式曝光机台的普及。
但1台要价新台币10亿~15亿元的浸润式曝光机台,平均1台只能做1万片12吋晶圆,对整个DRAM产业的制程微缩设下一道由资金筑成的天险。
正逢2008~2009年期间,DRAM产业出现前所未有的大崩盘潮,别说是台系DRAM厂命在旦夕,连尔必达(Elpida)和美光(Micron)当时都被连季亏损的压力逼到喘不过气来,根本拿不出资金预订浸润式曝光机台,加上当时艾司摩尔(ASML)也因为全球金融风暴而面临营运缩编的情况,因此后来机台订单一下子进来,也没有足够的机台可交货。
三星电子(Samsung Electronics)也趁着财务优势,加上产能规模本来就相当庞大,几乎把ASML的机台全都包下,台系DRAM厂即使到了2009年下半随着报价开始上扬,营运逐渐好转,想要添购浸润式曝光机台来做制程微缩,但确饱受机台缺货所苦。
台系DRAM厂的资金问题,不单只是在于肩上扛的负债就像无底洞一样还不清,还要面对转进新制程技术时,没有钱可以买新设备的问题,这牵扯到台湾DRAM产业的长远竞争力,没有钱先卡住新设备,代表未来转进20奈米制程时,技术会持续落后国际大厂,届时台厂与三星的制程技术差距,可能从落后1个世代,拉大至落后2~3个世代。
针对下世代技术的EUV机台,1台单价高达1亿美元,是过去浸润式曝光机台售价的2~3倍之多,平均1台EUV机台可能只能生产1万片左右的12吋晶圆,以现在1座12吋晶圆厂动辄6万~10万片产能,如果未来要全数转进20奈米和10奈米制程,要投资的金额对台系DRAM而言几乎是天价!
其实,现在次世代微影技术还有很多阵营,除了EUV之外,还有无光罩多重电子和浸润式微影多重曝光技术等在竞争,而EUV技术最为人诟病的就是成本太高的问题,连光罩和外围材料设备要价都不斐:不过,市场也认为未来EUV机台成熟度高之后,有助于成本下降,希望能不再这么高不可攀。