编辑:Andy 发布:2024-09-27 15:56
日本半导体设备厂佳能宣布,该司采用「纳米压印(Nano-imprint Lithography;NIL)」技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备「FPA-1200NZ2C」已出货给美国半导体联盟「TIE」 。这是佳能宣布在2023年10月开始销售NIL微影设备后、首度进行出货。此前佳能曾表示,该微影设备售价仅ASML极紫外光(EUV)微影设备的几分之一。
NIL微影设备可用来生产5nm芯片,经过改良后还可进一步用来生产2nm芯片。佳能表示,目标3-5年内每年卖出十几台。
由于纳米压印技术需使用软性材质的光刻胶材料,适合使用在规则性结构如DRAM和NAND FLASH,而逻辑芯片只有少部分的结构可以使用,因此纳米压印技术仍无法完全取代EUV微缩技术。
佳能开发纳米压印光刻技术超过15年时间,合作伙伴包括大日本印刷及存储厂商铠侠。佳能此前表示,首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造,而不是更加复杂的微处理器。佳能的目的不是要抢走EUV的市占,相信纳米压印技术与EUV乃至其他种类的技术能够并存。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 104100 | KRW | +3.58% |
| SK海力士 | 568000 | KRW | +1.79% |
| 铠侠 | 10900 | JPY | +8.13% |
| 美光科技 | 226.050 | USD | -0.26% |
| 西部数据 | 139.080 | USD | -1.63% |
| 闪迪 | 199.425 | USD | -2.41% |
| 南亚科技 | 134.5 | TWD | +1.13% |
| 华邦电子 | 55.2 | TWD | +2.22% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 1110 | TWD | +6.22% |
| 慧荣科技 | 100.600 | USD | 0.00% |
| 联芸科技 | 60.80 | CNY | -1.27% |
| 点序 | 80.1 | TWD | +4.98% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 283.00 | CNY | +3.73% |
| 希捷科技 | 270.815 | USD | +1.96% |
| 宜鼎国际 | 428.5 | TWD | +2.02% |
| 创见资讯 | 134.0 | TWD | -0.37% |
| 威刚科技 | 199.0 | TWD | +5.01% |
| 世迈科技 | 22.465 | USD | +0.33% |
| 朗科科技 | 31.71 | CNY | -1.89% |
| 佰维存储 | 135.69 | CNY | +4.14% |
| 德明利 | 226.09 | CNY | -4.69% |
| 大为股份 | 26.97 | CNY | +1.01% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 48.20 | TWD | +0.42% |
| 力成 | 177.0 | TWD | -2.75% |
| 长电科技 | 41.60 | CNY | -0.48% |
| 日月光 | 225.0 | TWD | +1.81% |
| 通富微电 | 44.68 | CNY | +0.18% |
| 华天科技 | 12.27 | CNY | -2.93% |
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