编辑:Andy 发布:2024-09-27 15:56
日本半导体设备厂佳能宣布,该司采用「纳米压印(Nano-imprint Lithography;NIL)」技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备「FPA-1200NZ2C」已出货给美国半导体联盟「TIE」 。这是佳能宣布在2023年10月开始销售NIL微影设备后、首度进行出货。此前佳能曾表示,该微影设备售价仅ASML极紫外光(EUV)微影设备的几分之一。
NIL微影设备可用来生产5nm芯片,经过改良后还可进一步用来生产2nm芯片。佳能表示,目标3-5年内每年卖出十几台。
由于纳米压印技术需使用软性材质的光刻胶材料,适合使用在规则性结构如DRAM和NAND FLASH,而逻辑芯片只有少部分的结构可以使用,因此纳米压印技术仍无法完全取代EUV微缩技术。
佳能开发纳米压印光刻技术超过15年时间,合作伙伴包括大日本印刷及存储厂商铠侠。佳能此前表示,首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造,而不是更加复杂的微处理器。佳能的目的不是要抢走EUV的市占,相信纳米压印技术与EUV乃至其他种类的技术能够并存。
| 存储原厂 |
| 三星电子 | 138100 | KRW | +7.47% |
| SK海力士 | 696000 | KRW | +2.81% |
| 铠侠 | 11350 | JPY | +8.77% |
| 美光科技 | 315.420 | USD | +10.51% |
| 西部数据 | 187.700 | USD | +8.96% |
| 闪迪 | 275.240 | USD | +15.95% |
| 南亚科技 | 208.0 | TWD | +0.48% |
| 华邦电子 | 95.5 | TWD | +5.18% |
| 主控厂商 |
| 群联电子 | 1470 | TWD | +1.73% |
| 慧荣科技 | 93.760 | USD | +1.14% |
| 联芸科技 | 47.43 | CNY | +4.98% |
| 点序 | 89.9 | TWD | +4.41% |
| 品牌/模组 |
| 江波龙 | 283.36 | CNY | +15.73% |
| 希捷科技 | 287.540 | USD | +4.41% |
| 宜鼎国际 | 592 | TWD | -0.50% |
| 创见资讯 | 206.5 | TWD | +1.72% |
| 威刚科技 | 290.0 | TWD | +3.39% |
| 世迈科技 | 20.280 | USD | +3.68% |
| 朗科科技 | 26.97 | CNY | +4.94% |
| 佰维存储 | 124.10 | CNY | +8.11% |
| 德明利 | 249.90 | CNY | +7.77% |
| 大为股份 | 27.50 | CNY | +5.85% |
| 封测厂商 |
| 华泰电子 | 54.7 | TWD | -2.15% |
| 力成 | 201.5 | TWD | +9.81% |
| 长电科技 | 38.36 | CNY | +4.30% |
| 日月光 | 263.5 | TWD | +2.13% |
| 通富微电 | 39.54 | CNY | +4.88% |
| 华天科技 | 11.24 | CNY | +2.46% |
深圳市闪存市场资讯有限公司 客服邮箱:Service@ChinaFlashMarket.com
CFM闪存市场(ChinaFlashMarket) 版权所有 Copyright©2008-2023 粤ICP备08133127号-2