编辑:Andy 发布:2024-09-27 15:56
日本半导体设备厂佳能宣布,该司采用「纳米压印(Nano-imprint Lithography;NIL)」技术、可用低成本制造高性能先进芯片的微影设备「FPA-1200NZ2C」已出货给美国半导体联盟「TIE」 。这是佳能宣布在2023年10月开始销售NIL微影设备后、首度进行出货。此前佳能曾表示,该微影设备售价仅ASML极紫外光(EUV)微影设备的几分之一。
NIL微影设备可用来生产5nm芯片,经过改良后还可进一步用来生产2nm芯片。佳能表示,目标3-5年内每年卖出十几台。
由于纳米压印技术需使用软性材质的光刻胶材料,适合使用在规则性结构如DRAM和NAND FLASH,而逻辑芯片只有少部分的结构可以使用,因此纳米压印技术仍无法完全取代EUV微缩技术。
佳能开发纳米压印光刻技术超过15年时间,合作伙伴包括大日本印刷及存储厂商铠侠。佳能此前表示,首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造,而不是更加复杂的微处理器。佳能的目的不是要抢走EUV的市占,相信纳米压印技术与EUV乃至其他种类的技术能够并存。
存储原厂 |
三星电子 | 69700 | KRW | +0.14% |
SK海力士 | 269000 | KRW | +0.19% |
铠侠 | 2596 | JPY | +5.06% |
美光科技 | 119.010 | USD | -2.45% |
西部数据 | 80.340 | USD | -2.07% |
闪迪 | 52.470 | USD | +3.15% |
南亚科技 | 47.00 | TWD | +0.75% |
华邦电子 | 19.70 | TWD | +0.51% |
主控厂商 |
群联电子 | 489.0 | TWD | +0.82% |
慧荣科技 | 79.680 | USD | -3.71% |
联芸科技 | 50.28 | CNY | -2.08% |
点序 | 52.7 | TWD | +0.19% |
品牌/模组 |
江波龙 | 95.46 | CNY | -3.22% |
希捷科技 | 167.400 | USD | -2.89% |
宜鼎国际 | 290.5 | TWD | -0.34% |
创见资讯 | 101.0 | TWD | +0.50% |
威刚科技 | 102.5 | TWD | +0.99% |
世迈科技 | 24.130 | USD | -1.99% |
朗科科技 | 26.93 | CNY | -4.87% |
佰维存储 | 70.48 | CNY | -2.99% |
德明利 | 94.32 | CNY | -3.76% |
大为股份 | 17.33 | CNY | -4.20% |
封测厂商 |
华泰电子 | 44.55 | TWD | -0.34% |
力成 | 119.0 | TWD | +0.42% |
长电科技 | 39.90 | CNY | -0.70% |
日月光 | 151.0 | TWD | +2.37% |
通富微电 | 33.09 | CNY | +10.01% |
华天科技 | 11.84 | CNY | +2.07% |
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