已达初步里程碑！ASML新型High-NA EUV开始运作

半导体设备制造商ASML近日证实，其大型新型高数值孔径极紫外光(High-NA EUV) 光刻系统已经「初见端倪」。这是一个里程碑，代表该光刻机虽然尚未发挥全部性能，但已开始运作。

光刻系统使用聚焦光束来蚀刻电脑芯片的微小电路。ASML 的高数值孔径极紫外光工具的大小相当于双层巴士，每具成本超过3.5 亿美元，预计将有助于实现新一代更小、更快的芯片。

第一个高数值孔径工具位于荷兰Veldhoven 的ASML 实验室，第二个工具正在俄勒冈州希尔斯伯勒附近的英特尔工厂组装。

包括台积电和三星在内的先进芯片制造商预计将在未来5年内采用该工具。英特尔在上周活动中表示，打算在其14A 代芯片的生产中使用该工具。