佳能将在近两年内出货纳米压印设备，或首先用于3D NAND工艺制造

据媒体报道，佳能高层主管表示，希望公司去年下半年发表的纳米压印设备能在近一两年发货。不过他坦承，由于这不是目前受到广泛使用的光刻技术，为满足良率要求，实际应用时会有各种问题需要克服。

佳能负责纳米压印光刻技术主管武石洋明表示，希望在2024或2025年内，开始出货这款设备，以赶在市场需求正热之时。他强调，这是非常独特的一项技术，能够降低高端芯片制造的成本与困难程度。

佳能开发纳米压印光刻技术超过15年时间，合作伙伴包括大日本印刷（DNP）及存储厂商铠侠，但是直到现在，才认可这项技术已经达到可商用化的阶段。

佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造，而不是更加复杂的微处理器。另外，武石洋明强调，佳能的目的不是要抢走EUV的市占，而是相信，纳米压印技术与EUV乃至其他种类的技术能够并存。