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佳能将在近两年内出货纳米压印设备,或首先用于3D NAND工艺制造

编辑:AVA 发布:2024-02-02 11:19

据媒体报道,佳能高层主管表示,希望公司去年下半年发表的纳米压印设备能在近一两年发货。不过他坦承,由于这不是目前受到广泛使用的光刻技术,为满足良率要求,实际应用时会有各种问题需要克服。

佳能负责纳米压印光刻技术主管武石洋明表示,希望在2024或2025年内,开始出货这款设备,以赶在市场需求正热之时。他强调,这是非常独特的一项技术,能够降低高端芯片制造的成本与困难程度。

佳能开发纳米压印光刻技术超过15年时间,合作伙伴包括大日本印刷(DNP)及存储厂商铠侠,但是直到现在,才认可这项技术已经达到可商用化的阶段。

佳能首先会将应用目标放在3D NAND工艺制造,而不是更加复杂的微处理器。另外,武石洋明强调,佳能的目的不是要抢走EUV的市占,而是相信,纳米压印技术与EUV乃至其他种类的技术能够并存。

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