消息称SK海力士将在238层3D NAND生产中采用厚KrF光刻胶

存储器 网络 AVA 2023-11-20 16:17

据韩媒报道,SK 海力士预计将开始在 3D NAND 生产中使用其子公司开发的厚氟化氪 (KrF) 光致光刻胶 (PR)。

消息人士称,SK Materials Performance是SK集团于2020年以400亿韩元收购的锦湖石化的电子材料业务部门,该公司开发了KrF PR,最近通过了SK海力士的质量测试。

SK 海力士让自己的子公司开发先进 NAND 关键材料的举措将使其在存储市场上与竞争对手相比更具竞争力。

SK Materials Performance 的 KrF PR 厚度约为 14 至 15 微米,与东进半导体生产的类似。

3D NAND 生产需要“厚”PR,因为可帮助它们更适合堆叠。例如,在 100 层 NAND 中,一层一层地制作会变得非常昂贵。在此过程中使用厚的 PR 可以让芯片制造商一次制作多层。较厚意味着 PR 的粘胶性更强,这会对均匀性产生负面影响,因此它们的开发具有挑战性。

预计 SK 海力士将在开始扩大 238 层 3D NAND 的生产以配合市场复苏时应用新的PR。

它将主要从自己的关联公司采购 PR,并使用 JSR 作为二级供应商。这意味着先进工艺将使用 SK Materials Performance 和 JSR 的其他工艺。

消息人士称,SK 海力士每月生产约 5,000 片 238 层 3D NAND 晶圆,但预计这一数字很快将大幅攀升。

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⊙6小时前 17:05

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